正在俄罗斯下诺夫哥罗德举行的第二十八届“纳米物理学和纳米电子学”国际研讨会上,透露了有关俄罗斯国产28nm光刻机的最新进展。
2023年,28nm光刻机的核心器件,一个强大的10-14nm X射线光源原型机被开发出来,用于基于氙的光刻。
俄罗斯国产28nmX射线光刻仪所需的8项关键技术已经具备,分别是:
超精密X射线光学透镜
高效X射线光源
掩膜
高效光谱净化和屏蔽保护滤波器
X射线电阻(纯化学)
综合系统。
扫描系统。
自动对焦。
俄罗斯国产28nmX射线光刻机研制时间表:
第一阶段2026-2027年首台完整测试样机
第二阶段2028-2029年小批量试生产初期机型问世
第三阶2030-2032年量产型投入使用。